IBM и AMD тоже готовятся к внедрению high-k диэлектриков
30th Январь 2007
После того, как Intel объявила о скором своём отказе от двуокиси кремния в пользу диэлектриков с большой диэлектрической постоянной (high-k) при производстве процессоров по 45-нм нормам, конкуренты решили выложить на стол и свои карты.IBM и AMD вместе со своими партнерами по разработке, Sony и Toshiba, презентовали свою новую технологию, использующую high-k диэлектрики и транзисторы с металлическим затвором.Сочетание диэлектрика затвора на основе
материала high-k и металлических электродов обеспечивает увеличение управляющего тока более чем на 20% и соответствующее повышение производительности транзисторов. В то же время более чем в 5 раз сокращается утечка тока от истока к стоку, т. е. снижается энергопотребление транзистора. Так как новые транзисторы меньше своих предшественников, то для их включения и выключения необходимо меньше электроэнергии, что позволяет снизить активное напряжение переключения приблизительно на 30%.IBM объявила что её собственное производство по 45-нм технологии с использованием high-k диэлектриков начнется в 2008 года на фабрике, расположенной в штате Нью-Йорк. Сентенции по поводу того, какое значение будет иметь новая технология для продления жизни Закона Мура мы опустим. Желающие оценить масштабность события могут прочесть наш материал, посвященный презентации аналогичной технологии Intel.Источник: DigiTimes